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AMC監(jiān)測對于半導體工藝技術(shù)的發(fā)展尤為重要

更新時間:2022-04-07瀏覽:2679次
  日益成熟的半導體工藝技術(shù)和同步高良率目標不僅需要改進晶圓加工設備和操作參數(shù),而且對潔凈中可能存在的氣態(tài)分子污染物(AMC)的監(jiān)測和控制也提出了越來越高的要求。隨著半導體制造工藝接近摩爾極限:納米(nm)蝕刻尺寸和更高密度的晶體管密度,潔凈室空氣中的各種“雜項”分子如果沉積在晶圓表面上可能會影響工藝效果。同時,由于現(xiàn)代技術(shù)的復雜性和工序多,這些影響會不斷地傳遞和放大,最終體現(xiàn)在晶圓良率上。

 

AMC監(jiān)測
 

 

  也就是說,AMC監(jiān)測技術(shù)也需要跟上半導體工藝技術(shù)的不斷進步和追求。根據(jù)文獻報道和相關研究,為了盡量減少AMC對工藝良率的影響,潔凈室關鍵AMC濃度需要控制在萬億級(pptv)。在實現(xiàn)高靈敏度的同時,快速響應也是一項重要指標,以提高樣品測量通量,并在AMC濃度異常時盡快報警,避免或減少對工藝和晶圓的負面影響屈服。
  AMC監(jiān)測可覆蓋幾大類AMC,同時獲得秒響應和pptv檢出限。高分辨率TOF飛行時間質(zhì)譜的匹配全譜記錄使vocusciTOF具備數(shù)據(jù)回溯分析的功能,這在半導體需要控制AMC類型不斷擴展的前提下尤為重要。
  AMC監(jiān)測針對不同半導體環(huán)境中各類AMC的實時、高靈敏度、高精度監(jiān)控案例的革命性解決方案。儀器軟硬件集成度高,運維成本極低,未來派上用場的高機動性,可以解決現(xiàn)有市場上其他儀器的諸多痛點,也為業(yè)主提供投資回報在提高整體良率、AMC事件預警、實時故障排除以及后續(xù)案例分析總結(jié)等方面。
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